http://scholars.ntou.edu.tw/handle/123456789/1989| 標題: | Refractive index behavior of boron-doped silica films by plasma-enhanced chemical vapor deposition | 作者: | Horng, R. H. Chen, F. Wuu, D. S. Tai-Yuan Lin |
公開日期: | 二月-1996 | 卷: | 92 | 來源出版物: | Applied Surface Science | URI: | http://scholars.ntou.edu.tw/handle/123456789/1989 | ISSN: | 0169-4332 | DOI: | 10.1016/0169-4332(95)00261-8 |
| 顯示於： | 光電與材料科技學系 |
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