http://scholars.ntou.edu.tw/handle/123456789/2286| 標題: | Physical properties of low temperature sputtering-deposited zirconium-doped indium oxide films at various oxygen partial pressures | 作者: | Yuan-Chang Liang | 公開日期: | 十月-2009 | 卷: | 97 | 期: | 1 | 來源出版物: | Applied Physics a-Materials Science & Processing | URI: | http://scholars.ntou.edu.tw/handle/123456789/2286 | ISSN: | 0947-8396 | DOI: | 10.1007/s00339-009-5214-2 |
| 顯示於： | 光電與材料科技學系 |
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