http://scholars.ntou.edu.tw/handle/123456789/5515
標題: | The copper contamination effect of Al2O3 gate dielectric on Si | 作者: | Liao, C. C. Cheng-Fa Cheng Yu, D. S. Chin, A. |
公開日期: | 2004 | 卷: | 151 | 期: | 10 | 來源出版物: | Journal of the Electrochemical Society | URI: | http://scholars.ntou.edu.tw/handle/123456789/5515 | ISSN: | 0013-4651 | DOI: | 10.1149/1.1789391 |
顯示於: | 通訊與導航工程學系 |
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