Characterization of RuO2 thin films deposited on Si by metal-organic chemical vapor deposition

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標題:	Characterization of RuO2 thin films deposited on Si by metal-organic chemical vapor deposition
作者:	Liao, P. C. Mar, S. Y. Ho, W. S. Huang, Y. S. Kwong-Kau Tiong
公開日期:	十月-1996
卷:	287
期:	1-2
來源出版物:	Thin Solid Films
URI:	http://scholars.ntou.edu.tw/handle/123456789/8142
ISSN:	0040-6090
DOI:	10.1016/s0040-6090(96)08761-5 ://WOS:A1996VY50400011
顯示於：	電機工程學系

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