http://scholars.ntou.edu.tw/handle/123456789/16030| 標題: | Phase-change masking for nanolithography | 作者: | C. H. Chu C. D. Shiue H. W. Chen B. H. Chen D. Chiang H. -P. Chiang D. P. Tsai |
公開日期: | 4-十月-2009 | 出版社: | International Symposium on Optical Memory 2009 | 會議論文: | International Symposium on Optical Memory 2009 | 描述: | 舉辦地點: Nagasaki Brick Hall, Nagasaki, Japan |
URI: | http://scholars.ntou.edu.tw/handle/123456789/16030 |
| 顯示於： | 光電與材料科技學系 |
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