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  1. National Taiwan Ocean University Research Hub
  2. 電機資訊學院
  3. 通訊與導航工程學系
請用此 Handle URI 來引用此文件: http://scholars.ntou.edu.tw/handle/123456789/5515
標題: The copper contamination effect of Al2O3 gate dielectric on Si
作者: Liao, C. C.
Cheng-Fa Cheng 
Yu, D. S.
Chin, A.
公開日期: 2004
卷: 151
期: 10
來源出版物: Journal of the Electrochemical Society
URI: http://scholars.ntou.edu.tw/handle/123456789/5515
ISSN: 0013-4651
DOI: 10.1149/1.1789391
://WOS:000224678500073
顯示於:通訊與導航工程學系

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